AttoMap™｜仕様蛍光X線分析装置
| 項目 | 仕様 | |
|---|---|---|
| モデル名 | AttoMap-200 | AttoMap-310 |
| 空間分解能 | 3～5µm以下（高分解能光学系） 7～10µm以下（標準光学系） |
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| 感度 | 相対感度サブppmでの追跡元素マッピング 絶対感度ピコグラムからフェムトグラム（元素、収集時間による） |
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| 元素範囲 | Na から U | B から U |
| 最大サンプルサイズ | 300mm×300mm | 100mm×100mm 標準操作時、 30mm×30mm 斜入射角 |
| ステージ移動 | 標準200mm×200mm 300mm×300mmまでアップグレード可能 |
標準100mm×100mm アップグレード可能 |
| 可変角度収集 | 通常入射（0度）とフリップステージ（70度） | 0度から70度までの収集角度可変 0.01度刻み |
| 回折線除去 | デュアル検出器オプションにより可能 | 角度最適化により可能 |
| X線源 | Sigray社特許取得済み高輝度マイクロフォーカス | Sigray社特許取得済み高輝度マイクロフォーカス |
| 管電力、管電圧、管電流 | 50W｜20-50kV｜2mA | 100W｜20-50kV｜2mA |
| ターゲット材 （最大5個まで） |
Cr、Cu、Au、Mo、Rh、W | SiC、Rh、Cr、Cu、Au、Mo、W |
| X線光学系 | Sigray社ツイン放物面X線光学系（各々のターゲット材に対応） | |
| 集光効率 | ～80％ | |
| 倍率 | 1：1倍率標準：ご要望に応じて高分解能用の縮小光学系も選択可 | |
| コーティング | プラチナ（光学系の収集率が向上） | |
| シリコンバックグラウンド | 有 | SiCにより、シリコンバックグラウンドを除去（半導体や鉱物学において重要） |
| X線検出器 | シリコンドリフト検出器 | |
| エネルギー分解能 | ＜129eV at Mn-Ka | |
| 真空対応 | ヘリウムフラッシュ | 真空筐体 |
| 追加機能 | 光学顕微鏡とX線カメラを含む | |
| 装置サイズ | W 1372mm×D 978mm×H 1664mm | |
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