Corial Shuttleline 200／300 Seriesプラズマエッチング装置／プラズマCVD装置
基本情報
- 装置名
- Corial Shuttleline 200／300 Series
- 製造元
- Corial（Plasma Therm Group）
おもな特長
- 使い易さ、コンパクトさを追求した筐体
- エッチャー／CVDの両方をラインナップ
- 塩素系ガスも使用可能
- 目的に応じRIE,ICPの仕様を選択可能
- マニュアルロード仕様。ロードロックも選択可能
- シャトルを使用することで様々なサイズのウェハや個片に対応し、複数枚同時も可能。ハードの段取り替え不要
- OESによる終点検知
商品仕様
- ウェハーサイズ
- 最大φ12″対応可能 小径ウェハー、角基板、トレー処理対応可能
- 同時処理枚数
- 2”×7枚、3”×3枚、6”×1枚、8”×1枚（200シリーズ）
- 装置サイズ
- W810×D1,665mm （200シリーズ 付帯ドライポンプやチラーを除く）
- 対応アプリケーション
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エッチャー：SiO2、SixNy、Al、Ti、TiN、Polymide
CVD：SiO2、SiN、SiOF、SiOCH、a-SiC:H、a-Si:H
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