商品一覧EUV露光計測装置
13.5ナノ（ナノは10億分の1）メートルという極めて短い波長領域の光を用いたEUV（Extreme Ultraviolet：極紫外線）露光は、回路線幅22ナノメートル世代以降の超微細化を実現する露光技術として現在開発されています。
EUV露光を量産工程で実用化するには、フォトマスク原板の欠陥・精度、フォトレジスト（感光剤）の解像度・感度、露光装置光源の出力など3つの大きな課題があり、本装置はこうした市場のニーズに応えるものです。
EUV露光は波長が13.5ナノメートルと極めて短いため、レンズを用いた従来の屈折光学系ではなく、多層膜ミラーで構成される反射光学系を利用します。
LPR 1016
EUVマスク用自動反射率測定装置
EUVマスク全自動反射率計。 EUV露光用フォトマスクの反射率を自動測定。
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キヤノンマーケティングジャパン株式会社 プロセス機器営業部 営業第一課
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