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ニュースリリース2007年2月22日
高性能・高信頼性を追求しシステムを全面的に一新した
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 EOS-1D Mark III （EF16-35mm F2.8L II USM装着時） |
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 EOS-1D Mark III（背面） |
● キヤノン EOS-1D Mark III ‥‥ オープン価格(発売日:2007年5月下旬)
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新製品“EOS-1D Mark III”は、高次元の「快速・快適・高画質」と優れた「信頼性」の実現のため、すべての仕様を一から見直し、これまで蓄積してきた技術を総結集して、カメラのみならず周辺 システムを全面的に一新したプロ用デジタル一眼レフカメラのフラッグシップモデルです。
約1010万画素と高画素ながら、常用設定できるISO範囲を100～3200※1まで拡張した新開発の大型CMOSセンサー（28.1×18.7mm:APS-Hサイズ）や、高性能映像エンジン「DIGIC III」を2個搭載したデュアル DIGIC IIIの採用により、より高いレベルでの高画質化を実現しています。また、約10コマ/秒の高速連写（連続撮影枚数約110枚※2）や、高速・高精度な19点（F2.8対応）クロス＋アシスト26点の新エリアAF、見やすさを追求した視野率約100％の新開発高性能ファインダーの搭載により、さらに高い次元での快速・快適な撮影を可能にしています。
従来機種「EOS-1D Mark II N」（2005年9月発売）の約1.5倍に相当する作動耐久30万回のシャッターを採用するとともに、防塵・防滴性能を備えたEFレンズと、同時発表のアクセサリーを使用することで撮影機材全体の防塵・防滴化を実現しており、総合的なセンサーダスト対策「EOS Integrated Cleaning System(イオス インテグレイテッド クリーニング システム)」の導入と合わせて、プロの過酷な撮影状況にも適応する高い信頼性を確保しています。
さらに、ユーザーインターフェースを一新し、操作性の改善を図るとともに、EOS DIGITALシリーズ最大の3.0型大型液晶モニターや2種類のライブビュー機能を搭載しています。また、ボディの軽量化と小型・軽量の大容量リチウムイオンバッテリーの採用により、操作性・機動性を飛躍的に向上させています。なお、“EOS-1D Mark III”の発売に合わせて、「スピードライト 580EX II」や「ワイヤレスファイルトランスミッター WFT-E2」、「オリジナルデータセキュリティーキット OSK-E3」など、報道やスポーツ、スタジオ撮影などの現場で、プロの信頼に応える撮影環境を構築するためのアクセサリーを同時に市場導入します。
※1ISO感度（推奨露光指数）。ISO感度拡張により、ISO50、6400も選択可能。
※2JPEG・ラージ記録時。
【デジタル一眼レフカメラの市場動向】
昨年のデジタル一眼レフカメラ市場（全世界）は、ハイアマチュア用「EOS 30D」や普及モデルの「EOS Kiss Digital X」がユーザーからの高い評価を得たことに加え、他社からもデジタル一眼レフカメラ新製品の市場投入が相次ぎ、対前年比約38%増の約525万台でした。2007年は対前年比約14%増の約600万台と、引き続き同市場の拡大が期待されています。（キヤノン調べ）
【開発の背景】
プロ用の機材には、画質はもちろん、撮影者の意志に迅速に反応するレスポンス性能、ボディの堅牢性や耐久性など、あらゆる面で最高水準が求められます。2005年9月に発売した「EOS-1D Mark II N」は、約8.5コマ/秒の高速連写による機動性を活かし、スポーツ・報道分野を中心に、ポートレート撮影や商品撮影、さらには風景写真といった分野にも威力を発揮し、きわめて高い評価を獲得してきました。その後継機となる新製品“EOS-1D Mark III”は、デジタル時代に相応しい、高次元の「快速・快適・高画質」と優れた「信頼性」の実現のため、すべての仕様を一から見直し、新規技術を盛り込み、カメラ本体および周辺システムを一新したプロ用デジタル一眼レフカメラとして開発されました。
特に自社開発のCMOSセンサーは、キヤノン独自の低ノイズ技術を駆使し約1010万画素と高画素ながら常用設定できるISO感度の設定範囲を100～3200まで拡張しました。また、デュアル DIGIC IIIの並列信号処理により高画質化と高速連写を両立させています。さらに、高速・高精度な19点クロス＋アシスト26点の新エリアAFセンサー、見やすさを追求した高性能ファインダー、作動耐久30万回のシャッターなどを新規に開発したほか、総合的なセンサーダスト対策「EOS Integrated Cleaning System(イオス インテグレイテッド クリーニング システム)」の導入や、システム全体での防塵・防滴化など、より高い次元での高性能・高信頼性の実現のために、これまで蓄積してきた技術を総結集しました。
