Photomask Japan 2018 第25回ホトマスク技術展示会

キヤノンブースでは、最先端マスク用途として国内外で実績のあるさまざまなマスク関連装置をご提案致します。取り扱い装置としてはRAVE社より最先端マスク向けの異物除去機能を搭載した高精度リペア装置、さらに極低温ペリクル剥離装置、フェムトパルスレーザーを使用した高スループットリペア装置、新しい管理手法を提供するマスクヘイズ除去装置、マスク精密CO2ドライクリーニング装置を展示します。また、その他にもEUV TECH社からEUVマスク用全自動反射率測定装置やEUVペリクル透過率測定装置、加速露光テスト装置を、またPlasma Therm社からはマスクエッチング装置を展示致します。来るEUV露光時代への周辺装置、およびマスクメーカー様への新装置を提案を目指します。

開催概要

おもな出展商品

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