nano tech 2010（国際ナノテクノロジー総合展・技術会議）

キヤノンブースでは、Obducat社のナノインプリント装置Sindre（シンドレ）シリーズ、Eitre（エイトレ）シリーズを展示し、ナノインプリントのモールドを含めたプロセスフロー全般に対するトータルソリューションを提供します。また、MEMSや三次元実装、パワー半導体の分野で高精度な深堀り加工が可能なTegal社のシリコンディープエッチング装置も展示いたします。

開催概要

会期

2010年2月17日（水）～2月19日（金）　10時～17時

会場

東京ビッグサイト　東4・5・6ホール（キヤノンブース：C-62）

キヤノングループ出展社

キヤノンマーケティングジャパン株式会社

入場事前登録

nano tech 2010オフィシャルサイトにて受け付けております。

主な展示製品（パネル展示）

• 基礎研究や製品開発に最適なナノインプリント装置
• 製品開発や少量生産に最適なナノインプリント装置
• セミ量産対応型ナノインプリント装置
• 量産対応型ナノインプリント装置
• 最大8インチ石英ウエハへ微細パターンを製作可能